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高純蒸發料

蒸發作為PVD技術的一種，被廣泛應用于半導體行業中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業的PVD薄膜材料供應商，可以提供各種規格的全系列高純金屬蒸發材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發，鎢舟，鉬舟蒸發，各種坩堝蒸發等。

同時，這些材料亦廣泛應用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質晶體制備等領域。

脆性，難熔的金屬材料，我公司采用高純度粉末為原料，通過熱壓、燒結、熱等靜壓等工藝成錠，經過熱處理，機械處理及精密的機加工工藝，制得晶粒細小（其平均晶粒尺寸<100μm），組織均勻，致密度高的高品質靶材。 

常規產品如下：

商品名稱純度(%)常規尺寸

高純鉻 靶材99.5   99.95常規現貨靶材尺寸：φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

靶材常規厚度2-6mm

可定制加工不同尺寸的圓靶、方靶

高純鎢 靶材99.95  99.999

高純鉬 靶材99.95  99.99

高純鉭 靶材99.95  99.99

高純鈮 靶材99.95  99.99

陶瓷化合物是指高純金屬材料的的碳、氮，氧，硫等的化合物，隨著陶瓷化合物材料在高性能陶瓷、發光材料、光學鍍膜等方向的研究不斷深入，其在電子半導體、太陽能光伏、光學器件、液晶顯示等領域的應用越來越廣泛。

中諾新材專業生產加工高純陶瓷化合物靶材，粉末，顆粒等，并可根據您的需求提供專業的定制服務。用于鍍制不同用途的導電膜，介質膜等