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電子束蒸發靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可提供種類齊全的熱蒸發靶材，電子束蒸發靶材，標準顆粒尺寸為：φ2*5mm，φ3*3mm，φ6*6mm，加料預熔方便，產品純度99.99-99.999%。并且可提供配套蒸發舟，蒸發線圈，坩堝等

貴（gui）金屬材料金顆粒 銀顆粒 鉑顆粒 鈀顆粒

常規金屬材料鋁顆粒 銅顆粒 鈦顆粒 鎳顆粒 鉻顆粒

合金材料金鍺合金  金鍺鎳合金  金錫合金 鎢鈦合金

配套坩堝銅坩堝 鎢坩堝 鉬坩堝 石墨坩堝 氮化硼坩堝

高純蒸發料

蒸發作為PVD技術的一種，被廣泛應用于半導體行業中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業的PVD薄膜材料供應商，可以提供各種規格的全系列高純金屬蒸發材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發，鎢舟，鉬舟蒸發，各種坩堝蒸發等。

同時，這些材料亦廣泛應用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質晶體制備等領域。

中諾新材可根據您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結，常壓燒結等工藝，可保證靶材摻雜比例準確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%