
雙極反滲透設備-實驗室超純水設備-EDI超純水系統-純化水機
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EDI超純水系統 實驗室超純水系統 水質可達18.25兆歐 全自動超純水機
高純水處理裝置(去離子水處理裝置),高純水設備,高純水制取設備的要求:
新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
高純處理裝置,去離子水處理裝置,高純水設備,高純水制取設備應用場合:
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制
集成電路生產中高純水清洗硅片
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
高品質顯像管、螢光粉生產
半導體材料**材料生產、加工、清洗
超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
實驗室和中試車間
汽車、家電表面拋光處理
光電產品、其他高科技精微產品

