上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用

上海伯東美國-KRi-大面積射頻離子源-RFICP

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品牌 KRi
產地 美國
型號 RFICP 380
最大離子束流 > 1000mA
電壓范圍 100-1500V
離子束動能 100-1200eV
離子束柵極 38cm Φ
離子束流形狀 平行,聚焦,散射
中和器 LFN 2000
鎖緊安裝法蘭 12”CF
商品介紹
價格貨期電議

上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用. 廣泛應用于離子束刻蝕機.

KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結構模塊化設計
3. 離子光學, 自對準技術, 準直光束設計, 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
射頻離子源 RFICP 380

射頻離子源 RFICP 380 技術規格:

陽極

電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配

最大陽極功率

>1kW

最大離子束流

> 1000mA

電壓范圍

100-1500V

離子束動能

100-1200eV

氣體

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

壓力

< 0.5mTorr

離子光學, 自對準

OptiBeamTM

離子束柵極

38cm Φ

柵極材質

鉬

離子束流形狀

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直徑

58.2 cm

鎖緊安裝法蘭

12”CF


射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:
射頻離子源 RFICP 380

上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機, 8英寸量產型金屬刻蝕機中, 實現 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領域.

作為蝕刻機的核心部件, KRI  射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
射頻離子源 RFICP 380

若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 107              T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 )      M: +886-939-653-958
qq: 2821409400 
現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
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公司名稱 上海伯東真空產品事業部
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