京邁研3524   三氧化鉬靶材  MoO3磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料 

【參數說明】

支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價??！ 

【產品介紹】

白色或蒼黃色、透明斜方晶體。密度4.692g/cm3。熔點795℃。沸點1155℃  升華  。加熱時變黃色，冷時即復原。即使在低于熔點情況下，也有顯著的升華現象。不溶于水，能溶于氨水和強堿。與堿溶液和許多金屬氧化物反應生成鉬酸鹽和多鉬酸鹽。由輝鉬礦  MoS2  灼燒或將鹽酸加入鉬酸銨中析出鉬酸后再加熱熔燒而制得，亦可直接煅燒鉬酸銨得到。用于制金屬鉬和鉬的化合物。

【關于我們】

服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質量保證，售后無憂！

產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注  ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。