

京邁研靶材小店
主營產品: 金屬靶材,陶瓷靶材和合金靶材
京邁研3524-三氧化鉬靶材-MoO3磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發
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京邁研3524 三氧化鉬靶材 MoO3磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
【參數說明】
支持靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例(重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價??!
【產品介紹】
白色或蒼黃色、透明斜方晶體。密度4.692g/cm3。熔點795℃。沸點1155℃ 升華 。加熱時變黃色,冷時即復原。即使在低于熔點情況下,也有顯著的升華現象。不溶于水,能溶于氨水和強堿。與堿溶液和許多金屬氧化物反應生成鉬酸鹽和多鉬酸鹽。由輝鉬礦 MoS2 灼燒或將鹽酸加入鉬酸銨中析出鉬酸后再加熱熔燒而制得,亦可直接煅燒鉬酸銨得到。用于制金屬鉬和鉬的化合物。
中文名 | 三氧化鉬 | 熔 點 | 795oC |
化學式 | MoO3 | 沸 點 | 1150°C |
分子量 | 143.94 | 密 度 | 4.69g/cm3 |
【關于我們】
服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊?,質量保證,售后無憂!
產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。
注 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!
建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。


