京邁研2331 金屬Ta鉭靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
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京邁研2331 金屬Ta鉭靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2331 金屬Ta鉭靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料

京邁研2331-金屬Ta鉭靶材-磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發料

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發貨地 北京市通州區
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商品參數
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商品介紹
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品牌 京邁研
型號 2331
金屬類型 金屬鉭
化學式 Ta
規格 聯系客服定制
純度 99.99
產地 北京
包裝 真空包裝
是否是危險化學品
用途 磁控濺射鍍膜
商品介紹

京邁研2331  金屬Ta鉭靶材  磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料 

【參數說明】

支持靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例  重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!! 

【產品介紹】

鉭,金屬元素,主要存在于鉭鐵礦中,同共生。鉭的硬度適中 ,富有延展性,可以拉成細絲式制薄箔。其熱膨脹系數很小。鉭有非常出色的化學性質,具有極高的抗腐蝕性。雖然鉭的抗腐蝕性很強,但是其抗腐蝕性是由于表面生成穩定的五氧化二鉭(Ta2O5)保護膜。無論是在冷和熱的條件下,對鹽酸、濃硝酸"王水"都不反應。可用來制造蒸發器皿等,也可做電子管的電極、整流器、電解電容。醫療上用來制成薄片或細線,縫補破壞的組織。

中文名

熔點

2996°C

化學式

Ta

沸點

5425°C

相對原子質量

180.9479

密度

16.654 g/cm3

 

【關于我們】

服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊?,質量保證,售后無憂!

產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 

質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。 

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。


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公司名稱 京邁研靶材小店
聯系賣家 楊杏林 (QQ:3462758834)
電話 钺钳钺-钻钸钹钺钻钹钺钺
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地址 北京市通州區
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