KRi 射頻離子源 RFICP 380伯東公司供應
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KRi-射頻離子源-RFICP-380伯東公司供應

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最大陽極功率 >1kW
最大離子束流 > 1000mA
流量 5-50sccm
壓力 < 0.5mTorr
氣體 Ar, O2, N2,其他
商品介紹
KRi 射頻離子源 RFICP 380

大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.
大口徑射頻離子源 RFICP 380-------------- 離子源自動控制器 --------------   -------- 射頻離子源 RFICP 380 本體 ----

射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結構模塊化設計
3. 離子光學, 自對準技術, 準直光束設計, 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV

射頻離子源 RFICP 380 技術規格:

陽極

電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配

最大陽極功率

>1kW

最大離子束流

> 1000mA

電壓范圍

100-1500V

離子束動能

100-1200eV

氣體

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

壓力

< 0.5mTorr

離子光學, 自對準

OptiBeamTM

離子束柵極

38cm Φ

柵極材質

鉬或石墨

離子束流形狀

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直徑

58.2 cm

鎖緊安裝法蘭

12”CF


射頻離子源 RFICP 380 尺寸:
射頻離子源尺寸

大口徑射頻離子源典型應用:
射頻離子源安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產
射頻離子源
在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
上海伯東RFICP325脫模測試

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國 KRI 射頻離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國 KRI 射頻離子源, 樣品無崩邊


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.


若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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