伯東公司供應KRi 射頻離子源 RFICP 220
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商品參數
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商品介紹
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型號 RFICP 220
離子束流 >800 mA
離子動能 100-1200 V
離子束 聚焦, 平行, 散射
流量 10-40 sccm
商品介紹
KRi 射頻離子源 RFICP 220

KRi 射頻離子源 RFICP 220
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現完美的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 最佳的離子光學元件能夠完成發散和聚集離子束的任務. 標準配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

型號

RFICP 220

Discharge 陽極

RF 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000


KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域:
預清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE


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上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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公司名稱 深圳伯東
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