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鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經在工業領域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。在二十世紀七十年代末，人類就已經開始物理氣相沉積技術，即PVD技術。物理氣相沉積技術可以應用在硬質膜的制造上，它能夠提高產品的機械化學性能，使制造出的產品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術在剛開始使用時，就在世界各國的工具制造業引起了巨大的反響，受到了高度重視。同時，這種技術工藝符合現代人們對環境無污染加工技術的要求，是一種綠色環保的技術。

鍍層薄，但具有高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。高硬度，低摩擦系數。不會改變基材本身的外觀，比如鏡面，拉砂紋，蝕刻紋，花紋，CD紋等不會覆蓋。 可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案。 PVD膜層可鍍材料廣泛，與基體結合力強。 經濟，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。高真空離子鍍膜技術——對人體和生態環境真正無害。對環境無害，避免化學，可以使用在內裝修或者室外，膜層具有生物兼容性 用途廣泛，現在主要應用于航空航天，耐高溫，高壓，抗磨損零件，刀具模具，日用五金，3C電子配件，建筑裝飾，電工電子，醫學等

任何事物都有自己的發展過程從興起到高峰時期, PVD也不例外下面我們來介紹它發發展過程.

PVD技術出現于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。

PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，涂層成分也由代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合涂層。