紫外光刻膠公司 Futurrex 光阻光刻膠品牌
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紫外光刻膠公司-Futurrex-光阻光刻膠品牌

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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

店齡6年 企業(yè)認(rèn)證

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經(jīng)營模式

生產(chǎn)加工

所在地區(qū)

北京市大興區(qū)

主營產(chǎn)品

其他電工電氣輔材

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商品參數(shù)
|
商品介紹
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聯(lián)系方式
耐溫 150度
掩模尺寸 12μm
聚焦補(bǔ)償 -15μm
膜厚 54μm
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
可售賣地 全國
縱橫比 4.5
曝光能量 1100 mJ/cm22
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號(hào) 14169921
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




全球市場(chǎng)

目前,光刻膠單一產(chǎn)品市場(chǎng)規(guī)模與海外巨頭公司營收規(guī)模相比較小,光刻膠僅為大型材料廠商的子業(yè)務(wù)。但由于光刻膠技術(shù)門檻高,就某一光刻膠子行業(yè)而言,僅有少數(shù)幾家供應(yīng)商有產(chǎn)品供應(yīng)。

由于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)要求較高,中國光刻膠市場(chǎng)基本由外資企業(yè)占據(jù),國內(nèi)企業(yè)市場(chǎng)份額不足40%,高分辨率的KrF和ArF光刻膠,其核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷,產(chǎn)品也基本出自日本和美國公司,包括陶氏化學(xué)、JSR株式會(huì)社、信越化學(xué)、東京應(yīng)化工業(yè)、Fujifilm,以及韓國東進(jìn)等企業(yè)。

而細(xì)化到半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng),國內(nèi)企業(yè)份額不足30%,與國際水平存在較大差距。超過80%市場(chǎng)份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中,國內(nèi)公司中,蘇州瑞紅與北京科華實(shí)現(xiàn)了部分品種的國產(chǎn)化,但是整體技術(shù)水平較低,僅能進(jìn)入8英寸集成電路生產(chǎn)線與LED等產(chǎn)線。


PC6-16000

NR9-3000PY 相對(duì)于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢(shì):

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲(chǔ)存保質(zhì)期長達(dá)3 年

NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm  

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm



光刻膠的參數(shù)介紹

1.對(duì)比度(Contrast)

對(duì)比度指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。 對(duì)比度越好,越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。

2.粘滯性/黏度 (Viscosity)

衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。

3.抗蝕性(Anti-etching)

光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。  

想要了解更多光刻膠的相關(guān)內(nèi)容,請(qǐng)及時(shí)關(guān)注賽米萊德網(wǎng)站。



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公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 (QQ:214539837)
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傳真 钺钳钺-钸钶钶钶钹钶钳钺
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)