

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
彩色光刻膠品牌-Futurrex-導(dǎo)電光刻膠品牌
價(jià)格
訂貨量(件)
¥8000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
況經(jīng)理
聯(lián)系電話
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品





光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底): 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS (H2C)6Si2NH 涂覆,熏蒸 與 SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。
PR1-2000A1光刻膠
4,曝光
前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機(jī)上,經(jīng)與光刻版對(duì)準(zhǔn)后,進(jìn)行曝光,接受光照的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化,形成潛影,
光源與光刻膠相匹配,也就是光源波長(zhǎng)在光刻膠的敏感波段;
對(duì)準(zhǔn):指光刻板上與襯底的對(duì)版標(biāo)記應(yīng)準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn),這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準(zhǔn)。
曝光時(shí)間,由光源強(qiáng)度,光刻膠種類,厚度等決定,
另外,為降低駐波效應(yīng)影響,可在曝光后需進(jìn)行烘焙,稱為光后烘焙(PEB)
光刻膠分類
正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
光刻膠可依據(jù)不同的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行分類。按照化學(xué)反應(yīng)和顯影的原理,光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。如果顯影時(shí)未曝光部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相反,稱為負(fù)性光刻膠;如果顯影時(shí)曝光部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相同,稱為正性光刻膠。
在實(shí)際運(yùn)用過程中,由于負(fù)性光刻膠在顯影時(shí)容易發(fā)生變形和膨脹的情況,一般情況下分辨率只能達(dá)到 2 微米,因此正性光刻膠的應(yīng)用更為廣泛。

