高溫光刻膠品牌 半導體光刻膠 Futurrex
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北京賽米萊德貿易有限公司

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生產加工

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商品參數
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商品介紹
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聯系方式
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準
產品編號 14122198
商品介紹
北京賽米萊德貿易有限公司主營:光刻膠




光刻膠編碼

HS編碼:


3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋]

中文描述: 不含銀的感光乳液劑 (CIQ碼:301:液體)
英文描述: Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申報要素: 0.品牌類型;1.出口享惠情況;2.用途;3.包裝;4.成分;5.是否含銀;6.品牌;7.型號;8.是否有感光作用(以下要素僅上海海關要求)9.GTIN;10.CAS
申報要素舉例: / 1.感光劑;2.用途:感光材料,用于噴墨制版機;3.包裝:瓶裝;4.成分:重氮樹脂94%以上;5.無品牌;6.無型號
單位: 千克

如何選購光刻膠?

光刻加工工藝中為了圖形轉移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質,使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是的,但實際應用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對光刻膠進行合理的選擇。

劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,正性光刻膠曝過光的區域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區域保持不變。負性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區域將溶解,而曝光的區域被保留。正性膠的分辨力往往是的,因此在IC制造中的應用更為普及,但MEMS系統中,由于加工要求相對較低,光刻膠需求量大,負性膠仍有應用市場。

以上就是為大家介紹的全部內容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。


微流控芯片硅片模具加工如何擇光刻膠呢?

賽米萊德專業生產、銷售光刻膠,我們為您分析該產品的以下信息。

一般來說線寬的用正膠,線窄的用負膠,正性光刻膠比負性的精度要高,負膠顯影后圖形有漲縮,負性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優于0.5μm 導致影響精度,正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負性膠的分辨率,但是薄負性膠會影響。同種厚度的正負膠,在對于抗濕法和腐蝕性方面負膠更勝一籌,正膠難以企及。



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公司名稱 北京賽米萊德貿易有限公司
聯系賣家 況經理 (QQ:214539837)
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