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Futurrex-正向光刻膠-近紅外光刻膠
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光刻膠介紹
光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。
光刻膠可以分為哪幾類
光刻膠的技術復雜,品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠。反之,對某些溶劑是不可溶的,經光照后變成可溶物質的即為正性膠。
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光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質 ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,他對光形式的輻射能,特別在紫外區會發生反應。曝光時間、光源所發射光線的強,度都根據感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質,為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態物質,并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發生反射而添加染色劑。
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