無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex
無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex
無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex
無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex
無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex
無機光刻膠公司 透明光刻膠品牌 Futurrex

無機光刻膠公司-透明光刻膠品牌-Futurrex

價格

訂貨量(件)

￥2000.00

≥1

聯(lián)系人 況經(jīng)理

専尅尃尋専尃尅尅尃專尅

發(fā)貨地 北京市大興區(qū)
進入商鋪
掃碼查看

掃碼查看

手機掃碼 快速查看

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

店齡6年 企業(yè)認(rèn)證

聯(lián)系人

況經(jīng)理

聯(lián)系電話

専尅尃尋専尃尅尅尃專尅

經(jīng)營模式

生產(chǎn)加工

所在地區(qū)

北京市大興區(qū)

主營產(chǎn)品

其他電工電氣輔材

進入店鋪
收藏本店

如果這是您的商鋪，請聯(lián)系我們

商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
運輸方式 貨運及物流
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
掩模尺寸 12μm
可售賣地 全國
耐溫 150度
報價方式 按實際訂單報價為準(zhǔn)
曝光能量 1100 mJ/cm22
光刻膠型號 NR5-8000
產(chǎn)品編號 14048411
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營：光刻膠




光刻膠工藝

普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能，F(xiàn)uturrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而改善光刻膠的分辨率性能，但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。


光刻膠簡介

賽米萊德——專業(yè)光刻膠供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工業(yè)的，以后才用于電子工業(yè)。 [1]  光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。



為什么現(xiàn)在還有人使用負(fù)性膠

劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后，被浸入顯影溶液中。在顯影過程中，正性光刻膠曝過光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下，未曝光的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反，在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙猓毓獾膮^(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的，因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及，但MEMS系統(tǒng)中，由于加工要求相對較低，光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場。

期望大家在選購光刻膠時多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯過細(xì)節(jié)疑問。想要了解更多光刻膠的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！！！



聯(lián)系方式
公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 （QQ：214539837）
電話 専尅尃尋専尃尅尅尃專尅
手機 専尅尃尋専尃尅尅尃專尅
傳真 尋専尋-将將將將尃將専尋
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)