正向光刻膠 Futurrex 光阻光刻膠品牌
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正向光刻膠-Futurrex-光阻光刻膠品牌

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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

店齡6年 企業(yè)認(rèn)證

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經(jīng)營(yíng)模式

生產(chǎn)加工

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北京市大興區(qū)

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其他電工電氣輔材

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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
可售賣地 全國(guó)
耐溫 150度
聚焦補(bǔ)償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號(hào) NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號(hào) 14028360
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng)：光刻膠




下游發(fā)展趨勢(shì)

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%，并且耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的40%到50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。2016年全球半導(dǎo)體用光刻膠及配套材料市場(chǎng)分別達(dá)到14.5億美元和19.1億美元，分別較2015年同比增長(zhǎng)9.0%和8.0%。預(yù)計(jì)2017和2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)將分別達(dá)到15.3億美元和15.7億美元。隨著12寸先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用，193nm及其它先進(jìn)光刻膠的需求量將快速增加


光刻膠的應(yīng)用

以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

模擬半導(dǎo)體（Analog Semiconductors）發(fā)光二極管（Light-Emitting Diodes LEDs）微機(jī)電系統(tǒng)（Microelectromechanical Systems MEMS）太陽(yáng)能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光電子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封裝（Packaging）



微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？

賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)、銷售光刻膠，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

一般來(lái)說(shuō)線寬的用正膠,線窄的用負(fù)膠，正性光刻膠比負(fù)性的精度要高，負(fù)膠顯影后圖形有漲縮，負(fù)性膠限制在2~3μm.，而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度，正性膠則無(wú)這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率，但是薄負(fù)性膠會(huì)影響。同種厚度的正負(fù)膠，在對(duì)于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌，正膠難以企及。



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公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 （QQ：214539837）
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手機(jī) 䀋䀔䀑䀍䀋䀑䀔䀔䀑䀒䀔
傳真 䀍䀋䀍-䀌䀐䀐䀐䀑䀐䀋䀍
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)