

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
無(wú)機(jī)光刻膠品牌-光刻膠品牌-Futurrex
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
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生產(chǎn)加工
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北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品





含硅光刻膠
為了避免光刻膠線條的倒塌,線寬越小的光刻工藝,就要求光刻膠的厚度越薄。在20nm技術(shù)節(jié)點(diǎn),光刻膠的厚度已經(jīng)減少到了100nm左右。但是薄光刻膠不能有效的阻擋等離子體對(duì)襯底的刻蝕 [2] 。為此,研發(fā)了含Si的光刻膠,這種含Si光刻膠被旋涂在一層較厚的聚合物材料(常被稱作Underlayer),其對(duì)光是不敏感的。曝光顯影后,利用氧等離子體刻蝕,把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到Underlayer上,在氧等離子體刻蝕條件下,含Si的光刻膠刻蝕速率遠(yuǎn)小于Underlayer,具有較高的刻蝕選擇性 [2] 。含有Si的光刻膠是使用分子結(jié)構(gòu)中有Si的有機(jī)材料合成的,例如硅氧烷,,含Si的樹脂等

光刻膠的相關(guān)內(nèi)容
光刻膠必須滿足幾個(gè)硬性指標(biāo)要求:高靈敏度,高對(duì)比度,好的蝕刻阻抗性,高分辨力,易于處理,高純度,長(zhǎng)壽命周期,低溶解度,低成本和比較高的玻璃化轉(zhuǎn)換溫度(Tg)。主要的兩個(gè)性能是靈敏度和分辨力。
感光膠的主要成分是樹脂或基體材料、感光化合物以及可控制光刻膠機(jī)械性能并使其保持液體狀態(tài)的溶劑。樹脂在曝光過程中改變分子結(jié)構(gòu)。感光化合物控制樹脂定相的化學(xué)反應(yīng)速度。溶劑使得膠能在圓片上旋轉(zhuǎn)擦敷并形成薄瞙。沒有感光化合物的光刻膠稱為單成分膠或單成分系統(tǒng),有一種感光劑的情形下,稱為二成分系統(tǒng)。因?yàn)槿軇┖推渌砑游锊慌c膠的感光反應(yīng)發(fā)生直接關(guān)系,它們不計(jì)入膠的成分。
在曝光過程中,正性膠通過感光化學(xué)反應(yīng),切斷樹脂聚合體主鏈和從鏈之間的聯(lián)系,達(dá)到削弱聚合體的目的,所以曝光后的光刻膠在隨后顯影處理中溶解度升高。曝光后的光刻膠溶解速度幾乎是未曝光的光刻膠溶解速度的10倍。而負(fù)性膠,在感光反應(yīng)過程中主鏈的隨機(jī)十字鏈接更為緊密,并且從鏈下墜物增長(zhǎng),所以聚合體的溶解度降低。見正性膠在曝光區(qū)間顯影,負(fù)性膠則相反。負(fù)性膠由于曝光區(qū)間得到保留,漫射形成的輪廓使顯影后的圖像為上寬下窄的圖像,而正性膠相反,為下寬上窄的圖像。
光刻膠的組成
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。
樹脂( resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)( 如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent),保持光刻膠的液體狀態(tài),使之具有良好的流動(dòng)性;添加劑( Additive ),用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑等。負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一-種天然的橡膠;溶劑是;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯影液。負(fù)性光刻膠在曝光區(qū)由溶劑引起泡漲;曝光時(shí)光刻膠容易與氮?dú)夥磻?yīng)而抑制交聯(lián)。
