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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品： 其他電工電氣輔材
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玻璃光刻膠品牌-Futurrex-半導(dǎo)體光刻膠
價格
訂貨量(件)
￥4000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
聯(lián)系人 況經(jīng)理
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發(fā)貨地 北京市大興區(qū)
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年 
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
況經(jīng)理
聯(lián)系電話
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經(jīng)營模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營產(chǎn)品
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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補(bǔ)償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實(shí)際訂單報價為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號 13995018
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營：光刻膠
光刻膠介紹
光刻膠介紹
光刻膠是一種對光線、溫度、濕度十分敏感的材料，可以在光照后發(fā)生化學(xué)性質(zhì)的改變，這是整個工藝的基礎(chǔ)。
光刻膠有不同的類型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛樹脂）等材料都可以做光刻膠。
目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括 FUTURREX、陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。
光刻膠介紹
光刻膠自1959年被發(fā)明以來一直是半導(dǎo)體核心材料，隨后被改進(jìn)運(yùn)用到PCB板的制造，并于20世紀(jì)90年代運(yùn)用到平板顯示的加工制造。終應(yīng)用領(lǐng)域包括消費(fèi)電子、家用電器、汽車通訊等。
光刻工藝約占整個芯片制造成本的35%，耗時占整個芯片工藝的40%~60%，是半導(dǎo)體制造中核心的工藝。
以半導(dǎo)體光刻膠為例，在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經(jīng)過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，形成與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形。
光刻技術(shù)隨著IC集成度的提升而不斷發(fā)展。為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求，半導(dǎo)體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以極限分辨率，世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別，光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及達(dá)到EUV(<13.5nm)線水平。
目前，半導(dǎo)體市場上主要使用的光刻膠包括 g 線、i 線、KrF、ArF四類光刻膠，其中，g線和i線光刻膠是市場上使用量較大的。KrF和ArF光刻膠核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。
光刻膠的應(yīng)用
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。
模擬半導(dǎo)體（Analog Semiconductors）發(fā)光二極管（Light-Emitting Diodes LEDs）微機(jī)電系統(tǒng)（Microelectromechanical Systems MEMS）太陽能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光電子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封裝（Packaging）
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公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 
（QQ：214539837）
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傳真 䝑䝒䝑-䝘䝐䝐䝐䝓䝐䝒䝑
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)
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