

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
Futurrex-國(guó)產(chǎn)光刻膠品牌-高溫光刻膠
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
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北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品





光刻膠是什么材料
光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。
1、光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。反之,對(duì)某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。
2、普通的光刻膠在成像過(guò)程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對(duì)比度,從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對(duì)提高圖形分辨率的影響也越來(lái)越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能,人們正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入,可明顯減小光刻膠表面對(duì)入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。
光刻膠的未來(lái)發(fā)展
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。
由于光刻膠的技術(shù)壁壘較高,國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)基本被國(guó)外企業(yè)壟斷。特別是高分辨率的KrF和ArF光刻膠,基本被日本和美國(guó)企業(yè)占據(jù)。
國(guó)內(nèi)光刻膠生產(chǎn)商主要生產(chǎn)PCB光刻膠,面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模相對(duì)較小。國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的光刻膠中,PCB光刻膠占比94%,LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠占比分別僅有3%和2%。
國(guó)內(nèi)光刻膠需求量遠(yuǎn)大于本土產(chǎn)量,且差額逐年擴(kuò)大。由于國(guó)內(nèi)光刻膠起步晚,目前技術(shù)水平相對(duì)落后,生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品,TFT-LCD、半導(dǎo)體光刻膠等高技術(shù)壁壘產(chǎn)品產(chǎn)能很少,仍需大量進(jìn)口,從而導(dǎo)致國(guó)內(nèi)光刻膠需求量遠(yuǎn)大于本土產(chǎn)量。
光刻膠分類
根據(jù)化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負(fù)性膠和正性膠。對(duì)某些溶劑可溶,但經(jīng)曝光后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠;反之,對(duì)某些溶劑不可溶,經(jīng)曝光后變成可溶的為正性膠。
從需求端來(lái)看,光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
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