

北京賽米萊德貿易有限公司
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雙層光刻膠-正負光刻膠公司-Futurrex
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光刻膠介紹
光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。
PR1-1500A1光刻膠
6,堅膜
堅膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現象,能使膠膜附著能力增強,康腐蝕能力提高。
堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min
7,顯影檢驗
光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡
小孔、小島。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優勢: - 優異的分辨率性能 - 快速地顯影 - 可以通過調節曝光能量很容易地調節倒梯形側壁的角度 - 耐受溫度100℃ - 室溫儲存保質期長達3 年
光刻膠的未來市場
光刻膠市場需求逐年增加,2018年全球半導體光刻膠銷售額12.97億美元,而國內光刻膠需求量方面,2011年光刻膠需求量為3.51萬噸,到2017年需求量為7.99萬噸,年復合增長率達14.69%。
國內光刻膠需求量遠大于本土產量,且差額逐年擴大。由于中國大陸光刻膠市場起步晚,目前技術水平相對落后,生產產能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品,TFT-LCD、半導體光刻膠等高技術壁壘產品產能很少。
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