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北京賽米萊德貿易有限公司主營：光刻膠

芯片光刻的流程詳解（二）

所謂光刻，根據維基百科的定義，這是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。

光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感光后因光化學反應而形成耐蝕性的特點，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。

NR9-250P

20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？

A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip

on glass 上的膠粘劑。

21．是否有Wax替代品？

A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。

22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？

A 有，IC1-200就是

23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？

A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，都可以簡化。

24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？

A 1 需要知道要涂在什么材質上，2

還有要知道需要做的膜厚，3

還要知道光刻膠的分辨率

4還有需要正膠還是負膠，5

需要國產還是進口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻膠，有什么光刻膠可以做到??！

A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex

NR21-20000P ，。

28．有沒有了解一款美國Futurrex

NR9-250P的光刻膠，請教下？

A 這是一款負性光刻膠，濕法蝕刻使用的，附著力很好，耐100度的溫度，國內也有可以代理的公司，Futurre

光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商，在光刻膠的領域有著不錯的聲譽，在太陽能光伏，和LED半導體行業都有不錯的市場占有率。

29．想找款膜厚的產品，進行蝕刻，有什么好推薦？

A 厚膜應用（thick

film applicati），主要是指高縱橫比（Aspect

ratios）,高分辨率，高反差，有幾款產品向你推薦一下《NR4-8000P，NR2-20000P，NR5-8000，這些產品都需要用到邊膠清洗液》

的光刻

光刻膠分類

根據化學反應機理和顯影原理的不同，光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶，但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之，對某些溶劑不可溶，經曝光后變成可溶的為正性膠。

從需求端來看，光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中，半導體光刻膠的技術壁壘較高。

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