水處理光刻膠品牌 Futurrex 金屬光刻膠公司
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水處理光刻膠品牌-Futurrex-金屬光刻膠公司

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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

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主營產(chǎn)品

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商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準
產(chǎn)品編號 13819770
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營：光刻膠




NR77-25000P,RD8


 品牌

 產(chǎn)地

 型號

 厚度

 曝光

 應(yīng)用

 加工

 特性

 Futurrex

 美國

 NR71-1000PY

 0.7μm~2.1μm

 高溫耐受

 用于i線曝光的負膠

 LEDOLED、

     顯示器、

 MEMS、

     封裝、

     生物芯片等

     金屬和介電

     質(zhì)上圖案化，

     不必使用RIE

     加工器件的永

    組成

    （OLED顯示

     器上的間隔

     區(qū)）凸點、

     互連、空中

     連接微通道

     顯影時形成光刻膠倒

     梯形結(jié)構(gòu)

     厚度范圍：

     0.5～20.0 μm

     i、g和h線曝光波長

     曝光

     對生產(chǎn)效率的影響：

     金屬和介電質(zhì)圖案化

     時省去干法刻蝕加工

     不需要雙層膠技術(shù)

 NR71-1500PY

  1.3μm~3.1μm

 NR71-3000PY

 2.8μm～6.3μm

 NR71-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR9-100PY

 0.7μm~2.1μm

 粘度增強

 NR9-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR9-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR9-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR71G-1000PY

 0.7μm~2.1μm

 高溫耐受

  負膠對  g、h線波長的靈敏度

 NR71G-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR71G-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR71G-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR9G-100PY

 0.7μm～2.1μm

 粘度增強

 NR9G-1500PY

 1.3μm～3.1μm

 NR9G-3000PY

 2.8μm～6.3μm

 NR9G-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 品牌

 產(chǎn)地

 型號

 厚度

 耐熱溫度

 應(yīng)用

 Futurrex

 美國

 PR1-500A

 0.4μm～0.9μm




光刻膠按用途分類

光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進步,應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴大,衍生出非常多的種類,按照應(yīng)用領(lǐng)域,光刻膠可以劃分為印刷電路板(PCB)用光刻膠、液晶顯示(LCD)用光刻膠、半導(dǎo)體用光刻膠和其他用途光刻膠。其中,PCB 光刻膠技術(shù)壁壘相對其他兩類較低,而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)水平。

(1)半導(dǎo)體用光刻膠

在半導(dǎo)體用光刻膠領(lǐng)域,光刻技術(shù)經(jīng)歷了紫外全譜(300～450nm)、G 線(436nm)、I 線 (365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV)六個階段。相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生,光刻膠中的關(guān)鍵配方成份,如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑也隨之發(fā)生變化,使光刻膠的綜合性能更好地滿足工藝要求。

(2)LCD光刻膠

在LCD 面板制造領(lǐng)域,光刻膠也是極其關(guān)鍵的材料。根據(jù)使用對象的不同,可分為 RGB 膠(彩色膠)、BM膠(黑色膠)、OC 膠、PS 膠、TFT 膠等。

光刻工藝包含表面準備、涂覆光刻膠、前烘、對準曝光、顯影、堅膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、終檢查等步驟,以實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移,制造特定的微結(jié)構(gòu)。

想要了解更多光刻膠的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！



光刻膠定義

光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)，封裝(Packaging)，微機電系統(tǒng)(MEMS)，光電子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板顯示器(LED,LCD,OLED)，太陽能光伏(Solar PV)等領(lǐng)域。

期望大家在選購光刻膠時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多光刻膠的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！！！



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傳真 尋専尋-将將將將尃將専尋
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地址 北京市大興區(qū)