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北京賽米萊德貿易有限公司
主營產品： 其他電工電氣輔材
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Futurrex-光刻膠-雙層光刻膠
價格
訂貨量(件)
￥5000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
聯系人 況經理
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發貨地 北京市大興區
商品參數
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商品介紹
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聯系方式
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
掩模尺寸 12μm
縱橫比 4.5
膜厚 54μm
光刻膠型號 NR5-8000
報價方式 按實際訂單報價為準
曝光能量 1100 mJ/cm22
產品編號 12847886
商品介紹
北京賽米萊德貿易有限公司主營：光刻膠
光刻的工序
下面我們來詳細介紹一下光刻的工序：
一、清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少其它缺陷，提高光刻膠黏附性
基本步驟：化學清洗——漂洗——烘干。
自1970年美國RCA實驗室提出的浸泡式RCA化學清洗工藝得到了廣泛應用，1978年RCA實驗室又推出兆聲清洗工藝，近幾年來以RCA清洗理論為基礎的各種清洗技術不斷被開發出來，例如：美國FSI公司推出離心噴淋式化學清洗技術、美國原CFM公司推出的Full-Flow systems封閉式溢流型清洗技術、美國VERTEQ公司推出的介于浸泡與封閉式之間的化學清洗技術（例Goldfinger Mach2清洗系統）、美國SSEC公司的雙面檫洗技術（例M3304 DSS清洗系統）、 日本提出無藥液的電介離子水清洗技術（用電介超純離子水清洗）使拋光片表面潔凈技術達到了新的水平、以HF / O3為基礎的硅片化學清洗技術。
光刻膠
在曝光過程中，正性膠通過感光化學反應，切斷樹脂聚合體主鏈和從鏈之間的聯系，達到削弱聚合體的目的，所以曝光后的光刻膠在隨后顯影處理中溶解度升高。曝光后的光刻膠溶解速度幾乎是未曝光的光刻膠溶解速度的10倍。而負性膠，在感光反應過程中主鏈的隨機十字鏈接更為緊密，并且從鏈下墜物增長，所以聚合體的溶解度降低。見正性膠在曝光區間顯影，負性膠則相反。負性膠由于曝光區間得到保留，漫射形成的輪廓使顯影后的圖像為上寬下窄的圖像，而正性膠相反，為下寬上窄的圖像。
想要了解更多光刻膠的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！
光刻膠定義
光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(IC)，封裝(Packaging)，微機電系統(MEMS)，光電子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板顯示器(LED,LCD,OLED)，太陽能光伏(Solar PV)等領域。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話?。?！
聯系方式
公司名稱 北京賽米萊德貿易有限公司
聯系賣家 況經理 
（QQ：214539837）
（QQ：214539837） 電話 㠗㠓㠒㠖㠗㠒㠓㠓㠒㠚㠓
手機 㠗㠓㠒㠖㠗㠒㠓㠓㠒㠚㠓
傳真 㠖㠗㠖-㠛㠙㠙㠙㠒㠙㠗㠖
地址 北京市大興區
況經理
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