正向光刻膠品牌 Futurrex 負(fù)性光刻膠公司
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膜厚 54μm
耐溫 150度
掩模尺寸 12μm
縱橫比 4.5
聚焦補償 -15μm
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
產(chǎn)品編號 12847885
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




光刻膠分類


市場上,光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn),可以進行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類,光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。使用正性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相同;使用負(fù)性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相反。

按照感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,光刻膠可以分為①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點;②光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性膠;③光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,可以制成負(fù)性光刻膠。

按照曝光波長分類,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同,通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,波長越小,加工分辨率越佳。


負(fù)性光刻膠原理

又稱光致抗蝕劑,是一種由感光樹脂、增感劑(見光譜增料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

原理

光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時引起的。對于有機物,基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV,相當(dāng)于該能量差的光(即波長為0.2~0.4μm的光)被有機物強烈吸收,使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵態(tài)。化學(xué)鍵合在受到這種激勵時,或者分離或者改變鍵合對象,發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后,因與物質(zhì)具有的電子相互作用,能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中,因此生成激勵狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。

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光刻膠的組成

光刻膠一般由4種成分組成:樹脂型聚合物、光活性物質(zhì)、溶劑和添加劑。樹脂是光刻膠中占比較大的組分,構(gòu)成光刻膠的基本骨架,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、耐腐蝕性、熱穩(wěn)定性等。光活性物質(zhì)是光刻膠的關(guān)鍵組分,對光刻膠的感光度、分辨率等其決定性作用。

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