無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex
無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex
無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex
無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex
無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex
無(wú)機(jī)光刻膠公司 水處理光刻膠品牌 干膜光刻膠品牌 Futurrex

無(wú)機(jī)光刻膠公司-水處理光刻膠品牌-干膜光刻膠品牌-Futurrex

價(jià)格

訂貨量(件)

¥4000.00

≥1

聯(lián)系人 況經(jīng)理

憩憤憬憧憩憬憤憤憬憦憤

發(fā)貨地 北京市大興區(qū)
進(jìn)入商鋪
掃碼查看

掃碼查看

手機(jī)掃碼 快速查看

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

店齡6年 企業(yè)認(rèn)證

聯(lián)系人

況經(jīng)理

聯(lián)系電話

憩憤憬憧憩憬憤憤憬憦憤

經(jīng)營(yíng)模式

生產(chǎn)加工

所在地區(qū)

北京市大興區(qū)

主營(yíng)產(chǎn)品

其他電工電氣輔材

進(jìn)入店鋪
收藏本店

如果這是您的商鋪,請(qǐng)聯(lián)系我們

商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
掩模尺寸 12μm
縱橫比 4.5
膜厚 54μm
耐溫 150度
可售賣地 全國(guó)
聚焦補(bǔ)償 -15μm
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
曝光能量 1100 mJ/cm22
光刻膠型號(hào) NR5-8000
產(chǎn)品編號(hào) 12828975
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng):光刻膠




NR9-3000PY光刻膠

光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底) 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS H2C6Si2NH 涂覆,熏蒸  SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。


微流控芯片硅片模具加工如何擇光刻膠呢?

賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)、銷售光刻膠,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

一般來(lái)說(shuō)線寬的用正膠,線窄的用負(fù)膠,正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度,正性膠則無(wú)這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率,但是薄負(fù)性膠會(huì)影響。同種厚度的正負(fù)膠,在對(duì)于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌,正膠難以企及。



為什么現(xiàn)在還有人使用負(fù)性膠

劃分光刻膠的一個(gè)基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過(guò)程中,正性光刻膠曝過(guò)光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙猓毓獾膮^(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的,因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及,但MEMS系統(tǒng)中,由于加工要求相對(duì)較低,光刻膠需求量大,負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場(chǎng)。

期望大家在選購(gòu)光刻膠時(shí)多一份細(xì)心,少一份浮躁,不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多光刻膠的相關(guān)資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!?。?



聯(lián)系方式
公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 (QQ:214539837)
電話 憩憤憬憧憩憬憤憤憬憦憤
手機(jī) 憩憤憬憧憩憬憤憤憬憦憤
傳真 憧憩憧-憫憭憭憭憬憭憩憧
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)