

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
無(wú)機(jī)光刻膠公司-水處理光刻膠品牌-干膜光刻膠品牌-Futurrex
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品





光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底): 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS (H2C)6Si2NH 涂覆,熏蒸 與 SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。
微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?
賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)、銷售光刻膠,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
一般來(lái)說(shuō)線寬的用正膠,線窄的用負(fù)膠,正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度,正性膠則無(wú)這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率,但是薄負(fù)性膠會(huì)影響。同種厚度的正負(fù)膠,在對(duì)于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌,正膠難以企及。
為什么現(xiàn)在還有人使用負(fù)性膠
劃分光刻膠的一個(gè)基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過(guò)程中,正性光刻膠曝過(guò)光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙猓毓獾膮^(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的,因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及,但MEMS系統(tǒng)中,由于加工要求相對(duì)較低,光刻膠需求量大,負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場(chǎng)。
期望大家在選購(gòu)光刻膠時(shí)多一份細(xì)心,少一份浮躁,不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多光刻膠的相關(guān)資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!?。?
