找商網(wǎng)手機端：m.zhaosw.com
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品： 其他電工電氣輔材
ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
收藏 
近紅外光刻膠品牌-彩色光刻膠品牌-Futurrex-正向光刻膠公司
價格
訂貨量(件)
￥3000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
聯(lián)系人 況經(jīng)理
ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
發(fā)貨地 北京市大興區(qū)
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年 
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
況經(jīng)理
聯(lián)系電話
ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
經(jīng)營模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營產(chǎn)品
進入店鋪
收藏本店
商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號 12808271
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營：光刻膠
NR77-5000PY
PR1-2000A1 試驗操作流程
PR1-2000A1的厚度范圍可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm為列；
1,靜態(tài)滴膠后以1300轉(zhuǎn)/分速度持續(xù)40秒。同時必須需要在1秒內(nèi)達到從0轉(zhuǎn)/分到1300轉(zhuǎn)/分的升速度；
2，前烘：熱板120度120秒；
3，冷卻至室溫；
4，用波長為365,406,436的波長曝光，
5，在溫度為20-25度，使用RD6浸泡式、噴霧、顯影 ；
6，去除光刻膠，可使用CH3COCH3，RR5,RR41等。
光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)
1、分辨率:區(qū)別硅片表面相鄰圖形特性的能力，一般用關(guān)鍵尺寸來衡量 分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。
2、對比度:指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。對比度越好，形成圖形的側(cè)壁越陡峭，分辨率越好。
3、敏感度:光刻膠上產(chǎn)生一 個良好的圖形所需一 定波長的小能量值(或小曝光量)。單位:焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻膠
的敏感性對于波長更短的深紫外光(DUV)、極深紫外光(EUV)等尤為重要。
4、粘滯性/黏度:衡量光刻膠流動特性的參數(shù)。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加;高的粘滯性會產(chǎn)生厚的光刻膠;越小的
粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。
5、粘附性:表征光刻膠粘著于襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導(dǎo)致硅片表面的圖形變形。
6、抗蝕性:光刻膠必須保持它的粘附性，在后續(xù)的刻蝕I序中保護襯底表面。
7、表面張力:液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間吸引力。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。
8、存儲和傳送:能量可以啟動光刻膠。應(yīng)該存儲在密閉、低溫、不透光的盒中。 同時必須規(guī)定光刻膠的閑置期限和存貯溫度環(huán)境。
以上內(nèi)容由賽米萊德為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助！
光刻膠的核心參數(shù)是什么？
分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展，芯片制造特征尺寸越來越小，對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要，光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。
以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。
聯(lián)系方式
公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 
（QQ：214539837）
（QQ：214539837） 電話 ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
手機 ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
傳真 ῧῡῧ-ῠ῟῟῟Ῠ῟ῡῧ
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)
況經(jīng)理
ῡῤῨῧῡῨῤῤῨῢῤ
掃碼查看 掃碼查看
手機掃碼 快速查看
在線客服 
