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北京賽米萊德貿易有限公司主營：光刻膠
NR77-20000P

正膠PR1-2000A1技術資料

正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米，可用于晶圓步進器、掃描投影對準器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求，在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑，如HMDS。

相對于其他的光刻膠，PR1-2000A1有如下的一些額外的優勢：

PEB，不需要后烘的步驟；

較高的分別率；

快速顯影；

較強的線寬控制；

蝕刻后去膠效果好；

在室溫下有效期長達2年。

美國Futurre光刻膠

30．想請教國產光刻膠不能達到膜厚要求，進口的有沒有比較好的光刻膠啊？

都可以啊！goodpr是大陸比較多公司采用的，

但是Futurre 光刻膠在國外是比較有名氣的，包括很多大型企業都有用，膜厚做的也

比較厚從18um-200um都 可以做到，看你對工藝的要求了。

光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產品屬性：

1  FUTURRE光刻膠產品簡要描述及優勢:

1.1   Futurre光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）

1.2  負性光刻膠常溫下可保存3年

1.3  150度烘烤，縮短了烘烤時間

1.4  單次旋涂能夠達到100um膜厚

1.5  顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘

光刻膠市場情況  

目前全球光刻膠市場基本被日本和美國企業所壟斷。光刻膠屬于高技術壁壘材料，生產工藝復雜，純度要求高，需要長期的技術積累。日本的JSR、東京應化、信越化學及富士電子四家企業占據了全球70%以上的市場份額，處于市場壟斷地位。

光刻膠市場需求逐年增加，2018年全球半導體光刻膠銷售額12.97億美元。隨著下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求擴大，未來光刻膠市場將持續擴大。

以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們