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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 其他電工電氣輔材
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光阻光刻膠公司-Futurrex-雙層光刻膠品牌-近紅外光刻膠公司
價(jià)格
訂貨量(件)
￥3000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷(xiāo)潛力款
聯(lián)系人 況經(jīng)理
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發(fā)貨地 北京市大興區(qū)
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年 
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
況經(jīng)理
聯(lián)系電話
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
進(jìn)入店鋪
收藏本店
商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
可售賣(mài)地 全國(guó)
耐溫 150度
聚焦補(bǔ)償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號(hào) NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號(hào) 12779973
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng)：光刻膠
NR77-25000P,RD8
品牌
產(chǎn)地
型號(hào)
厚度
曝光
應(yīng)用
加工
特性
Futurrex
美國(guó)
NR71-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
用于i線曝光的負(fù)膠
LEDOLED、
顯示器、
MEMS、
封裝、
生物芯片等
金屬和介電
質(zhì)上圖案化，
不必使用RIE
加工器件的永
組成
（OLED顯示
器上的間隔
區(qū)）凸點(diǎn)、
互連、空中
連接微通道
顯影時(shí)形成光刻膠倒
梯形結(jié)構(gòu)
厚度范圍：
0.5～20.0 μm
i、g和h線曝光波長(zhǎng)
曝光
對(duì)生產(chǎn)效率的影響：
金屬和介電質(zhì)圖案化
時(shí)省去干法刻蝕加工
不需要雙層膠技術(shù)
NR71-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71-3000PY
2.8μm～6.3μm
NR71-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9-100PY
0.7μm~2.1μm
粘度增強(qiáng)
NR9-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR9-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR71G-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
負(fù)膠對(duì) g、h線波長(zhǎng)的靈敏度
NR71G-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71G-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR71G-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9G-100PY
0.7μm～2.1μm
粘度增強(qiáng)
NR9G-1500PY
1.3μm～3.1μm
NR9G-3000PY
2.8μm～6.3μm
NR9G-6000PY
5.7μm~12.2μm
品牌
產(chǎn)地
型號(hào)
厚度
耐熱溫度
應(yīng)用
Futurrex
美國(guó)
PR1-500A
0.4μm～0.9μm
光刻膠的應(yīng)用
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。
模擬半導(dǎo)體（Analog Semiconductors）發(fā)光二極管（Light-Emitting Diodes LEDs）微機(jī)電系統(tǒng)（Microelectromechanical Systems MEMS）太陽(yáng)能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光電子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封裝（Packaging）
光刻膠定義
以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容，賽米萊德專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)光刻膠，歡迎新老客戶蒞臨。
光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因?yàn)楣饪棠z的作用就是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠只是一種形象的說(shuō)法，因?yàn)楣饪棠z從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束的照射時(shí)，光刻膠材料本身的特性會(huì)發(fā)生改變，經(jīng)過(guò)顯影液顯影后，曝光的負(fù)性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會(huì)留在襯底表面，這樣就將設(shè)計(jì)的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上，而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝，就可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上，后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠按其形成圖形的極性可以分為：正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正膠指的是聚合物的長(zhǎng)鏈分子因光照而截?cái)喑啥替湻肿樱回?fù)膠指的是聚合物的短鏈分子因光照而交鏈長(zhǎng)鏈分子。 短鏈分子聚合物可以被顯影液溶解掉，因此正膠的曝光部分被去掉，而負(fù)膠的曝光部分被保留。
光刻膠一般由4部分組成：樹(shù)脂型聚合物（resin/polymer），溶劑（solvent），光活性物質(zhì)（photoactive compound，PAC），添加劑（Additive）。 其中，樹(shù)脂型聚合物是光刻膠的主體，它使光刻膠具有耐刻蝕性能；溶劑使光刻膠處于液體狀態(tài)，便于涂覆；光活性物質(zhì)是控制光刻膠對(duì)某一特定波長(zhǎng)光/電子束/離子束/X射線等感光，并發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)；添加劑是用以改變光刻膠的某些特性，如控制膠的光吸收率/溶解度等。
聯(lián)系方式
公司名稱(chēng) 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣(mài)家 況經(jīng)理 
（QQ：214539837）
（QQ：214539837） 電話 䀋䀔䀑䀍䀋䀑䀔䀔䀑䀒䀔
手機(jī) 䀋䀔䀑䀍䀋䀑䀔䀔䀑䀒䀔
傳真 䀍䀋䀍-䀌䀐䀐䀐䀑䀐䀋䀍
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)
況經(jīng)理
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