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水性光刻膠品牌-固體光刻膠品牌-負性光刻膠品牌
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光刻膠市場
全球光刻膠市場擴增,對光刻膠的總需求不斷提升。據估計,2015年國際光刻膠市場達73.6億美元,其中PCB光刻膠占比24.5%,LCD光刻膠占26.6%,半導體光刻膠占比24.1%。2010年到2015年期間,國際光刻膠市場年復合增長率約為5.8%;據中國產業信息網數據,2015年,PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠的國際市場增速均在5%左右。在下游產業的帶動下,江瀚咨詢預計國際光刻膠市場規模在2022年可能突破100億美元。
光刻膠分類
根據化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經曝光后變成可溶的為正性膠。
從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。
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光刻膠相關知識
光刻開始于一種稱作光刻膠的感光性液體的應用。圖形能被映射到光刻膠上,然后用一個developer就能做出需要的模板圖案。光刻膠溶液通常被旋轉式滴入wafer。如圖2.5所示,wafer被裝到一個每分鐘能轉幾千轉的轉盤上。幾滴光刻膠溶液就被滴到旋轉中的wafer的中心,離心力把溶液甩到表面的所有地方。光刻膠溶液黏著在wafer上形成一層均勻的薄膜。多余的溶液從旋轉中的wafer上被甩掉。薄膜在幾秒鐘之內就縮到它后期的厚度,溶劑很快就蒸發掉了,wafer上就留下了一薄層光刻膠。然后通過烘焙去掉后面剩下的溶劑并使光刻膠變硬以便后續處理。鍍過膜的wafer對特定波成的光線很敏感,特別是紫外(UV)線。相對來說他們仍舊對其他波長的,包括紅,橙和黃光不太敏感。所以大多數光刻車間有特殊的黃光系統。
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