

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
干膜光刻膠公司-負(fù)性光刻膠品牌-彩色光刻膠品牌-Futurrex
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡6年
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經(jīng)營模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營產(chǎn)品





光刻膠工藝
普通的光刻膠在成像過程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對比度,從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能,F(xiàn)uturrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入,可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。
全球市場
目前,光刻膠單一產(chǎn)品市場規(guī)模與海外巨頭公司營收規(guī)模相比較小,光刻膠僅為大型材料廠商的子業(yè)務(wù)。但由于光刻膠技術(shù)門檻高,就某一光刻膠子行業(yè)而言,僅有少數(shù)幾家供應(yīng)商有產(chǎn)品供應(yīng)。
由于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)要求較高,中國光刻膠市場基本由外資企業(yè)占據(jù),國內(nèi)企業(yè)市場份額不足40%,高分辨率的KrF和ArF光刻膠,其核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷,產(chǎn)品也基本出自日本和美國公司,包括陶氏化學(xué)、JSR株式會社、信越化學(xué)、東京應(yīng)化工業(yè)、Fujifilm,以及韓國東進(jìn)等企業(yè)。
而細(xì)化到半導(dǎo)體用光刻膠市場,國內(nèi)企業(yè)份額不足30%,與國際水平存在較大差距。超過80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中,國內(nèi)公司中,蘇州瑞紅與北京科華實現(xiàn)了部分品種的國產(chǎn)化,但是整體技術(shù)水平較低,僅能進(jìn)入8英寸集成電路生產(chǎn)線與LED等產(chǎn)線。
光刻膠的作用有什么?
光刻是將圖形由掩膜版上轉(zhuǎn)移到硅片上,為后續(xù)的刻蝕步驟作準(zhǔn)備。在光刻過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經(jīng)紫外線曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在通過顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,從而實現(xiàn)將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上。再經(jīng)過刻蝕過程,實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。在刻蝕過程中,光刻膠起防腐蝕的保護(hù)作用。
