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高純蒸發料

蒸發作為PVD技術的一種，被廣泛應用于半導體行業中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業的PVD薄膜材料供應商，可以提供各種規格的全系列高純金屬蒸發材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發，鎢舟，鉬舟蒸發，各種坩堝蒸發等。6mm常規厚度1-6mm可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務。

同時，這些材料亦廣泛應用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質晶體制備等領域。

貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產品純度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業。

常規靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務。

中諾新材分析測試設備——精密低電阻測試儀                                          

  精密電阻測試儀是一種高精度寬量程、采用高性能微處理器控制的精密電阻測試儀。它可以量測0.001Ω·CM～100Ω·CM的電阻

基本準確度：0.01%

200000數顯示位數

十一個量程自動或手動測試輸出電流3A。

提供0.1μΩ ~ 110MΩ測試范圍。

150次/秒，10次/秒，2次/秒的測試速度。